适用VUV~UV
高分辨率光谱仪
高密度刻线是通过进一步提升传统全息技术，实现了3000 ~ 5000条/mm高密度光栅刻线的一款衍射光栅，具有低杂散光且高分辨率的性能，可适用于真空紫外、紫外区域的高分辨率的光谱仪。
特点
- 提升原有工艺方法后实现了高密度刻线加工，从而实现了高分辨率的性能要求。
- 全息曝光的制作工艺，与机械刻线加工的光栅相比，可减少因周期误差引起的杂散光，是一款低杂散光的光栅。
- 安博（中国）独有的复制技术，可提供高品质的光栅产品。
- 可根据客户要求，接受各种规格的非标定制。
最终用途
- 分光光度計
- 发光分析装置
- 半导体制造・检测装置
标准规格
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制品编号（C/N） |
498-016-601L-MG |
434-026-601L |
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刻线数 (条/mm) |
4984 |
4342 |
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波长范围 (nm) ※1 |
118～360 |
190～400 |
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相对衍射效率 （+1阶光，无偏光，littrow配置 |
20%以上 （波长220nm） |
28%以上 （波长260nm） |
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镀膜※2 |
Al＋MgF2 |
Al |
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类别 |
等间隔直线刻线复制型光栅※3 |
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基底材质※2 |
碱玻璃(Soda glass) |
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外形尺寸(mm) ※2 |
60±0.2(W)×60±0.2(H)×11.3±0.5(T) |
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有效范围 |
除外形周边2mm 的区域 |
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刻线数公差 |
±0.2% |
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划痕 |
80-50 (依据MIL-O-13830A) |
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※1 使用波长为参考值，并非保证值。
※2 可根据客户要求非标定制
※3 光栅刻线是在树脂上加工形成的。
结露是造成光学特性显著劣化的重要原因，应避免结露
如有外观以及规格的变化，恕不另行通知。
相对衍射效率（+1阶光，无偏光，littrow 光路配置）例
波长
※ 数据为参考值，非保证值
外形图 第三角投影法
※如有外观以及规格的变化，恕不另行通知。
